濺射靶材
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硅鋁靶材 SiAl
公司生產(chǎn)的硅鋁靶材采用先進的熱等靜壓工藝和熱噴涂工藝生產(chǎn)，產(chǎn)品包括矩形靶、圓弧靶和管靶等類型，具有成分比例范圍寬（鋁含量為10at%~90at%）、純度和密度高、晶粒細小均勻、使用壽命長等優(yōu)點。
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硅鋁靶材 SiAl
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產(chǎn)品描述
公司生產(chǎn)的硅鋁靶材采用先進的熱等靜壓工藝和熱噴涂工藝生產(chǎn)，產(chǎn)品包括矩形靶、圓弧靶和管靶等類型，具有成分比例范圍寬（鋁含量為10at%~90at%）、純度和密度高、晶粒細小均勻、使用壽命長等優(yōu)點。硅鋁靶材典型的成分比例有90:10wt%、70:30wt%等，也可按照客戶要求定制特殊成分和規(guī)格靶材。
Our silicon-aluminum target including rectangular target, arc target and tube target is manufactured by hot isostatic pressing and thermal spraying technology and has the advantages of wide range of component (The content of aluminum is 10% ~ 90at%), high purity and density, fine and uniform grain size and long service life. The typical component of silicon-aluminum target is 90:10wt%, 70:30wt% and so on. The silicon-aluminum target of special component and specification can also be customized according to the customer's requirements.
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硅鋁靶 |
性能 |
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化學成分/at% |
Si90Al10 |
Si70Al30 |
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純度/% |
99.8 |
99.8 |
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密度/g/cm3 |
≥2.31 |
≥2.41 |
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|
晶粒度/μm |
≤100 |
≤100 |
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金屬雜質(zhì)總和/ppm |
≤2000 |
≤2000 |
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規(guī)格尺寸/mm |
平面靶 |
熱等靜壓 |
熱等靜壓 |
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旋轉(zhuǎn)靶 |
熱噴涂成形 |
熱噴涂成形 |
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SiAl (90:10 wt%)
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成分(elements) |
硅(Si) |
鋁（Al） |
鐵（Fe） |
銅(Cu) |
錳（Mn) |
碳(C) |
鈣（Ca） |
氧(O) |
氮(N) |
|
測 試 值（wt%)（Test values） |
90.19 |
9.66 |
≤0.074 |
0.002 |
0.002 |
0.04 |
0.002 |
≤0.04 |
0.04 |
|
密度（g/cm3）（Density) |
2.36 |
||||||||
SiAl (70:30 wt%)
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成分(elements) |
硅(Si) |
鋁（Al） |
鐵（Fe） |
銅(Cu) |
錳（Mn) |
碳(C) |
鈣（Ca） |
氧(O) |
氮(N) |
|
測 試 值（wt%)（Test values） |
70.81 |
28.93 |
≤0.071 |
0.002 |
0.002 |
0.04 |
0.002 |
≤0.05 |
0.04 |
|
密度（g/cm3）（Density) |
2.42 |
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關鍵詞：
鉻靶材,鉻靶
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